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《尊龙凯时人生就是博十二时间系列》—未时篇:Particle君,请Move out

要害词:


尊龙凯时人生就是博十二时间系列—未时篇

Particle君,请Move out

01

微电子行业良率杀手-Particle

在微电子行业,颗粒(Particle)的保存可能对生产历程爆发重大影响。其中,每个细小的颗粒,无论是来自职员、装备,照旧自然情形,都有可能在制程中引发故障,从而对产品性能爆发负面影响。

什么是颗粒(Particle)?在超净间,"颗粒"通常指的是细小的物质粒子,可能包括灰尘、液滴、病菌等,这些颗?梢杂扇恕⒆氨傅缺。任何这些颗粒进入产品或装备都可能导致污染,对制造历程爆发负面影响。Particle按体型巨细分类,可分为3类,小颗微粒(S): 1~3um、中颗微粒(M): 3~5um、大颗微粒(L): >5um。

The relative size of particles

1.

头发平均直径:100微米

2.

盐粒:60微米

3.

花粉:15微米

4.

细菌:5微米

5.

病毒:0.1微米

生产厂房污染源主要有7种:空气、职员、厂房、水、工艺用化学品、工艺气体、生产装备,颗粒物附着机制可归纳综合分为:重力、静电、热运动等方面,相同粒径的微尘,附着机制要因的差别从数毫dyne~数十dyne,有时甚至会抵达数百dyne,单张G6(1500mm*1850mm)以上基板玻璃颗粒异物(1μm以上)高达上万颗。




02

Particle在各工艺段带来的不良

在显示器屏幕生产工艺中,主制程阵列(Array)段流程主要为:洗濯→成膜→涂布→曝鲜明影→刻蚀→剥离。
那么在各工艺流程中Particle是怎样带来不良的?

1

洗濯

若Particle残留较多,会在下一步成膜时导致膜层内保存缺陷或者突起。


2

成膜

Particle会导致膜层内保存缺陷或者突起,同时膜层外貌的Particle还会对下段涂布制程造成影响。

3

涂布

Particle会导致PR胶内形成缺陷或者突起,同时PR外貌的Particle还可能会导致后制程曝鲜明影后保存PR残留。

4

曝鲜明影

Particle会导致显影PR胶残留或者确缺失,同时外貌的Particle还可能会导致后制程刻蚀残留或者过刻。

5

刻蚀

Particle会导致刻蚀残留,同时外貌的Particle还可能会导致后制程剥离PR残留。

6

剥离

Particle会导致PR残留,同时外貌的Particle还可能会导致后制程成膜膜层内保存缺陷或者突起。

这些微观电路异;嵩诓飞显斐傻恪⑾摺⒚娴炔涣加跋,甚至90%的不良均是有Particle导致的。


03

Particle君,请Move out

凭证附着机制的差别,洗濯的一样平常思绪为:去除有机污垢→消融氧化物污垢陷阱→去除颗粒、金属等污垢→外貌钝化→基板干燥。

主要洗濯要领先容:

1

RCA清

RCA是一种典范的、至今仍为最普遍使用的湿式化学洗濯法,该洗濯法主要包括以下几种洗濯液:

(1)SPM:(Piranha)H2SO4 /H2O2(8:1) 

SPM具有很高的氧化能力,可将金属氧化后溶于洗濯液中,并能把有机物氧化天生CO2和H2O。用SPM洗濯硅片可去除硅片外貌的重有机沾污和部分金属,可是当有机物沾污特殊严重时会使有机物碳化而难以去除。

(2)DHF:HF+H2O(1:100) 

DHF可以去除硅片外貌的自然氧化膜,因此,附着在自然氧化膜上的金属将被消融到洗濯液中,同时DHF抑制了氧化膜的形成。DHF也可以去除附着在自然氧化膜上的金属氢氧化物。用DHF洗濯时,在自然氧化膜被侵蚀掉时,硅片外貌的硅险些不被侵蚀。

(3)APM(SC-1):NH4OH/H2O2 /H2O(1:2:50) 

由于H2O2的作用,硅片外貌有一层自然氧化膜,呈亲水性,硅片外貌和粒子之间可被洗濯液浸透。由于硅片外貌的自然氧化层与硅片外貌的Si被NH4OH侵蚀,因此附着在硅片外貌的颗粒便落入洗濯液中,从而抵达去除粒子的目的。在 NH4OH侵蚀硅片外貌的同时,H2O2又在氧化硅片外貌形成新的氧化膜。

(4)HPM(SC-2):HCl/H2O2/H2O (1:2:50) 

用于去除硅片外貌的钠、铁、镁等金属沾污。在室温下HPM就能除去Fe和Zn。

2

有机类异物洗濯

有机类异物洗濯可以分为四种方法:

(1)EUV洗濯

接纳EUV光源发射172nm紫外光把氧分子酿成氧原子和臭氧分子以及把有机物中的碳碳键和碳氢键打断,重新组合成二氧化碳和水,从而抵达去除有机物的目的。

(2)AP Plasma洗濯(等离子洗濯法)
使用等离子体爆发的自由基与有机异物反应,再以气流的方法去除,从而抵达洗濯的目的。由于AP功率强,一样平常会对金属外貌爆发影响,以是,在金属制程中一样平常不接纳AP Plasma的洗濯手艺。AP使用的气体主要是氮气和空气凭证一定的比例混淆,同时,和玻璃基板坚持合适的距离,加载一定的电压,从而爆发自由基,对基板外貌举行清洁。
(3)激光辅助洗濯 
使用激光辅助系统往复除0.1um或者更小的异物。主要机理为激光加热,破损微粒的情形,从而抵达去除微粒的目的。
(4)Detergent洗濯 

主要使用酸性、碱性或中性化学物质与去离子水形成一定浓度的溶液来洗濯基板的外貌。虽然,关于部分小颗金属异物也有除去功效。一样平常常用的化学药剂有:氨氢-双氧水溶液、铬酸-硫酸混淆液、TMAH稀释液和氢氟酸稀释液。

3

无机类异物洗濯(一样平常洗濯)

无机类异物洗濯主要用水冲洗,可是水往往是以差别压力及形式冲洗在玻璃基板的外貌。

(1) HPMJ—High Pressure Micro Jet, 高压微粒喷射洗濯手艺,通过对水增压,在喷嘴处以高压水微粒形式,喷射在玻璃基板外貌,抵达去除外貌大颗粒异物和高粘度细小微粒的目的。有些制程特征的需求,也可以和二氧化碳一起混淆加入,形成二氧化碳水,即碳酸,让水可以导电,抵达可以去除静电的目的。

(2)AAJET—Aqua Air Jet,水气二流体洗濯手艺。这种手艺是把水和空气在一定的压力下,凭证一定的比例从喷出,它可以有用地去除细小颗粒和污垢,同时对敏感外貌造成的损伤较小。由于使用的液体量很少,且被气体迅速稀释,以是被洗濯的外貌可以迅速干燥,镌汰水痕或残留物。

(3)Roller Brush- 旋转毛刷洗濯手艺,使用高速旋转的毛刷并增添适当的压入量,物理的摩擦基板外貌,通过刷子的机械作用力往复除外貌的较大污垢和残留物。

(4)兆声波洗濯方法,当兆声波撒播通过液体时,在液体中形成细小的气泡或朴陋。当声波压力抵达一定水平时,这些细小的气泡会迅速塌陷。气泡的塌陷爆发强烈的攻击波和微射流,这些征象有助于去除物体外貌的污垢、油脂、颗粒等。

(5)高效干燥系统,接纳风刀干燥方法,使用高速气流往复除物体外貌上的液体的要领,用于在洗濯历程后的干燥办法。风刀干燥系统通常由一个或多个长条形的喷嘴组成,这些喷嘴能够爆发一束狭窄、高速的气流。风刀爆发的气流可以吹走外貌上的液滴和湿气,镌汰了因液体蒸发而在外貌上形成的湿气层,这样可以更有用地去除外貌的水分。
尊龙凯时人生就是博装备通过12年的沉淀与积累,面向G6及以上大尺寸面板高效洗濯问题,可针对性的将差别洗濯工艺举行搭配形成一套完善的高效团结洗濯工艺系统。为了从源头上杜绝装备对基板造成Particle污染,针对直接与基板接触的部分(Roller、O-Ring等),尊龙凯时人生就是博装备通过恒久开发和研究形成了从源头上以及可视化的治理方法。

1

Roller材质包管计划

通过对市面上相同材质差别厂家的UPE滚轮模拟面板使用情形,发明差别厂家品质差别狼籍不齐,后续在Roller设计中特殊划定质料使用的厂家品牌以及型号,从源头上将危害阻止。

2

O-Ring材质包管计划

约请多家专业O-Ring质料生产厂家,模拟行业内差别使用情形举行浸泡验证,并在后续O-Ring设计中凭证差别的使用情形匹配合适的材质,同时与生产厂家相助将差别材质的O-ring举行颜色区分,举行可视化的防呆治理,从基础上阻止质料混用错用情形。


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常见问题·0点击·2024-03-25

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